電子束光刻機依靠聚焦電子束轟擊光刻膠完成圖形直寫加工，電子到達基底后會發生散射，一部分電子向前穿透光刻膠，另一部分電子在基底內部發生背散射，向四周擴散，使圖形周邊光刻膠也受到額外曝光劑量，這就是鄰近效應。該現象會造成線條尺寸偏移、拐角發生圓化、密集圖形和孤立線條線寬不一致，是實際加工中高頻遇到的工藝難題。不同品牌型號設備電子光學系統、加速電壓檔位、束流條件存在區別，同等樣品條件下散射影響程度各不相同，校正參數不能直接照搬套用。

加速電壓直接影響電子散射范圍，高壓條件下電子穿透更深，背散射作用范圍更大；低壓模式散射半徑縮小，但束斑質量會受到一定影響。開展精細圖形加工時，需要結合基底材質、光刻膠厚度，合理選定加速電壓。對于硅基底、石英基底，同樣曝光參數下產生的散射效果存在明顯差異，基底越厚，背散射帶來的額外曝光越明顯。

鄰近效應校正主要分為劑量調制、圖形幾何修正兩類手段。劑量校正會對孤立線條、密集陣列、拐角區域分配不同曝光劑量，補償散射帶來的多余能量；圖形修正是提前對設計圖形做預變形，抵消曝光之后的圖形畸變。不同品牌配套軟件內置校正算法不一樣，部分機型支持全自動劑量計算，部分機型需要手動分區設置曝光劑量。

實際加工調試過程，優先采用標準測試版圖做線寬標定，實測不同圖形的真實線寬，以此迭代校正參數，不能直接套用理論計算數值。光刻膠厚度同樣不可忽視，膠層過厚會放大散射帶來的尺寸偏差。同時束流大小也會對結果造成影響，大束流加工效率更高，但位置采樣點數降低，細小圖形的尺寸控制難度上升。完成校正之后，使用相同基底、相同光刻膠開展驗證曝光，測量關鍵尺寸，確認校正效果，再開展正式工件加工。