電子束光刻機使用絕緣類基底開展電子束直寫曝光時，容易出現(xiàn)圖形位置偏移、邊緣扭曲、局部線條斷裂，同一寫場內(nèi)不同區(qū)域畸變程度不一致，套刻對位標(biāo)記識別失效，無法完成大面積連續(xù)圖形加工。該故障僅在絕緣基材加工場景高頻出現(xiàn)，更換導(dǎo)電基底后異常現(xiàn)象明顯減輕，不同設(shè)備的電荷中和模塊性能存在差異，故障表現(xiàn)輕重各不相同。

電子束持續(xù)轟擊絕緣樣品表面，電荷無法快速導(dǎo)出會不斷發(fā)生累積，在樣品表層形成局部靜電場，靜電場會偏轉(zhuǎn)后續(xù)入射電子束的運行軌跡，導(dǎo)致電子束落點偏離預(yù)設(shè)坐標(biāo)，輸出變形的微納圖形。樣品表面導(dǎo)電層鍍層厚度不均勻、導(dǎo)電層存在局部破損，會造成電荷泄放通道局部失效，形成區(qū)域性畸變。電荷中和裝置參數(shù)調(diào)試不到位、中和粒子束流量不匹配曝光束流大小，不能夠有效抵消表面積累的多余電荷。另外曝光掃描順序不合理，局部區(qū)域連續(xù)大劑量曝光，短時間大量電荷堆積，也會加重圖形扭曲偏移的現(xiàn)象。環(huán)境溫濕度波動改變樣品表面微弱的導(dǎo)電能力，同樣會對充電效應(yīng)帶來間接影響。