無掩膜光刻機讀取的版圖文件多為矢量格式，設備內部需完成矢量向光柵點陣的轉換，才能驅動 DMD 生成曝光圖像，轉換過程參數設置不合理，會造成微納圖形畸變，降低微細結構加工精度。

現象：設計文件中規則的微小矩形、窄線條陣列，經無掩膜光刻機曝光顯影之后出現邊角圓滑、線條寬窄隨機變化，部分微細結構發生扭曲變形，圖形偏差只出現在特征尺寸接近系統分辨率極限的微結構，大尺寸圖形成像正常，調整焦點與曝光劑量無法消除畸變。

成因：無掩膜光刻機需要將矢量格式的版圖文件轉換為光柵點陣數據用于 DMD 成像，轉換時的采樣網格、抗鋸齒算法參數設置不當，微細幾何結構在像素采樣過程丟失細節信息。不同設備配套的版圖處理軟件采樣算法、插值模式存在區別，相同矢量版圖在不同型號無掩膜光刻機上轉換后的光柵圖形精度差異明顯。如果矢量圖形存在重疊線條、未閉合輪廓等隱藏繪圖缺陷，會進一步加劇采樣失真，造成局部圖形畸變。

改善方案：針對無掩膜光刻機的版圖預處理階段，對微細結構進行矢量檢查，消除重疊線段、開放輪廓等繪圖錯誤；調整光柵轉換采樣分辨率，設置高于目標特征 2 倍以上的采樣網格；關閉不必要的自動抗鋸齒平滑功能，避免微小棱角被算法鈍化；提前進行小視場試曝光，比對設計圖形與無掩膜光刻機實際成像結果，微調插值算法參數，完成采樣校準后再進行整片樣品曝光。