無(wú)掩膜光刻機(jī)憑借圖形切換靈活、基底兼容性廣的特點(diǎn)，大量應(yīng)用于 MEMS 傳感器件、微光學(xué)元件以及微流控器件的加工制造當(dāng)中，適配多品種、中小批量的生產(chǎn)加工模式。

MEMS 傳感器件內(nèi)部包含大量微型溝槽、空腔、可動(dòng)微型結(jié)構(gòu)，產(chǎn)品規(guī)格迭代頻繁，不同型號(hào)傳感器的圖形結(jié)構(gòu)差異較大。借助無(wú)掩膜直寫曝光能力，可以完成壓力傳感、慣性器件內(nèi)部微結(jié)構(gòu)的光刻成型，不用反復(fù)制作掩模版就可以快速輸出不同版本的樣品，完成結(jié)構(gòu)性能對(duì)比，有效縮短產(chǎn)品迭代周期，也能夠承接定制規(guī)格器件的批量加工任務(wù)。

微光學(xué)器件領(lǐng)域，設(shè)備可以加工光柵、光波導(dǎo)、菲涅爾透鏡等精密微結(jié)構(gòu)，部分機(jī)型支持灰度曝光功能，能夠直接生成連續(xù)漸變的三維形貌結(jié)構(gòu)，省去多步套刻的繁瑣工序，適配玻璃、石英等透光基底的加工需求，服務(wù)光通信、激光雷達(dá)相關(guān)光學(xué)元件的生產(chǎn)制造。

在微流控器件加工場(chǎng)景，設(shè)備用來(lái)制備各類微通道、反應(yīng)腔陣列圖形，通道尺寸可以靈活調(diào)整，滿足不同流體控制結(jié)構(gòu)的加工需要，可在各類高分子薄片以及硬質(zhì)基底上完成曝光，支撐各類微流體器件的成型制作。整套加工流程依靠數(shù)字版圖驅(qū)動(dòng)，產(chǎn)品改型只需要更新設(shè)計(jì)文件，非常適合品類繁多的定制化微納器件生產(chǎn)。