無掩膜光刻機長時間連續曝光作業時，光源、運動平臺持續發熱，熱量傳導至基底，造成基底熱變形，直接引發多層結構套刻偏差。現象為多層圖形疊加時出現錯位，大尺寸基底邊緣位置套刻誤差顯著高于中心區域，基底翹曲還會同步帶來局部離焦，線條邊緣輪廓發生畸變。不同品牌設備的溫控系統、載臺散熱結構參數不同，熱穩定性指標差距較大，薄基底、大面積基底工況下差異尤為突出。

成因：設備連續曝光產生累積熱量，載臺缺少恒溫控制，基底受熱產生不均勻熱膨脹；基底自身材料熱膨脹系數較高，薄基底更容易發生翹曲形變；環境溫度波動疊加設備內部溫升，放大位移誤差。

改善方案：啟用設備恒溫載臺，提前預熱設備，待系統熱平衡后再開始正式曝光；加工前對基底進行烘烤時效處理，釋放材料內應力；增加實時視覺對準模塊，逐區域動態標記并補償基底形變帶來的坐標偏移；優化曝光排版，減少長時間不間斷連續曝光，分段加工降低熱量累積，同時參考不同機型熱漂移參數選型，適配大面積多層套刻工藝。