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掃描電鏡樣品熱損傷

掃描電鏡?電子束持續(xù)轟擊低熱導率樣品時，會產(chǎn)生樣品熱損傷問題。

掃描電鏡?觀測帶有陡峭臺階結(jié)構(gòu)樣品時，容易出現(xiàn)邊緣增強假象。

無掩膜光刻機?在加工微小密集線條陣列時，會出現(xiàn)圖形各向異性偏差，平行與垂直方向的線條線寬不一致。

無掩膜光刻機?使用單色光源進行投影曝光時，容易在光刻膠層內(nèi)部產(chǎn)生駐波效應(yīng)，直接影響圖形輪廓質(zhì)量。

掃描電鏡?觀測具有高低落差的樣品時，容易出現(xiàn)圖像景深不足問題。

掃描電鏡?長時間連續(xù)采集圖像時，會出現(xiàn)二次電子信號衰減現(xiàn)象。

無掩膜光刻機?長時間連續(xù)曝光作業(yè)時，光源、運動平臺持續(xù)發(fā)熱，熱量傳導至基底，造成基底熱變形，直接引發(fā)多層結(jié)構(gòu)套刻偏差。

無掩膜光刻機?采用 DMD 數(shù)字微鏡陣列進行圖形投影曝光，當照明光路出現(xiàn)偏差時，會出現(xiàn)曝光光斑均勻性不足的問題。